池田屋新品VAT 61.3 HV蝶形控制阀正式发布

摘要：
近日，池田屋实业有限公司宣布正式推出瑞士VAT公司61.3 HV系列蝶形控制阀（型号：61328-KAAE-0001）。该产品专为半导体CVD、ALD等严苛真空工艺的下游压力控制设计，集成步进电机控制器，响应时间仅0.1秒，压力控制范围覆盖1×10⁻⁸mbar至1.2bar（绝对压力）。阀体可选铝或不锈钢材质，法兰标准为ISO-KF和ISO-F，泄漏率低于1×10⁻⁹mbar·L/s，保养前操作周期达200万次。该型号专为高颗粒物负荷的严苛真空环境设计，为半导体与显示制造领域提供快速、精确、高可靠性的真空压力控制解决方案。

正文：

在半导体制造、平板显示及薄膜涂层等真空工艺中，精确的下游压力控制是决定薄膜质量与工艺重复性的关键因素。化学气相沉积（CVD）与原子层沉积（ALD）等工艺对压力控制的响应速度与精度提出了要求——压力波动将直接影响薄膜的均匀性与台阶覆盖能力。传统控制阀在响应速度、耐颗粒物能力及长期稳定性方面存在局限，难以满足先进制程的严苛需求。针对这一行业需求，池田屋实业有限公司正式引入瑞士VAT公司61.3 HV系列蝶形控制阀（型号：61328-KAAE-0001）。该产品的推出，为真空工艺提供了兼具超快响应、高精度控制与高可靠性的真空压力控制解决方案。

型号61328-KAAE-0001的核心技术优势在于其集成步进电机控制器与超快响应性能的精密配合。该产品集成快速精准的运动控制器，响应时间仅0.1秒，能够迅速计算并调整阀板位置以实现设定压力，确保工艺压力的快速稳定。集成压力控制器可自动计算所需阀板位置，以最快速度达到设定压力。压力控制范围覆盖1×10⁻⁸mbar至1.2bar（绝对压力），适配从高真空到低真空的宽范围压力控制需求。产品专为下游工艺中颗粒物含量高的严苛环境设计，即使在高颗粒物负荷和碎屑堆积的情况下，仍能通过优化的设计保持运行。阀体材质为铝（EN AW-6082），轴为AISI 316L不锈钢，馈通密封采用FKM（可提供其他材质），泄漏率低于1×10⁻⁹mbar·L/s。阀体最高耐受温度150℃，控制器建议工作温度≤35℃。保养前操作周期达200万次（取决于操作条件和密封材料），具有优异的长期可靠性。

在尺寸规格与选型灵活性层面，61.3 HV系列提供DN 25至DN 320的完整尺寸覆盖，满足从小型研发设备到大型生产设备的安装需求。法兰标准为ISO-KF和ISO-F，可根据客户需求提供定制法兰与集成加热器等特殊功能。该型号提供多种控制器接口选项，包括逻辑（A/D）、Profibus、RS232、RS485、CC-Link、DeviceNet及EtherCAT等，便于与现有控制系统集成。

从典型应用场景来看，型号61328-KAAE-0001适用于半导体CVD与ALD工艺的压力控制、平板显示薄膜沉积的压力调节、太阳能电池薄膜沉积的真空控制，以及晶体生长与薄膜封装等精密真空工艺等场景。池田屋技术团队指出，61.3 HV系列在精密测量与自动化控制方面表现稳健，是真空压力控制领域的理想选择。

池田屋实业有限公司表示，此次将VAT 61.3 HV系列蝶形控制阀引入国内市场，旨在为本土半导体与制造企业提供兼具超快响应、高精度与高可靠性的真空压力控制流体管理解决方案。未来，池田屋将持续围绕精密测量、自动化控制与流体管理三大方向深耕，助力中国半导体与显示制造的真空工艺升级与效能提升。