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更新时间:2026-07-09
浏览次数:47INFICON QMG 800 是继 QMG 700 之后的新一代四极杆残余气体分析仪(RGA),在测量速度、灵敏度与灵活性方面实现了全面升级。该产品专为各种分析质谱应用而设计,尤其适用于污染监测过程中的精确分析,可帮助半导体、光伏、科研及工业制造等领域实现高纯度和质量控制目标。
QMG 800 融合了 INFICON 在气体分析领域超过 50 年的技术积累,采用先进的数字平台与模块化设计,能够灵活适配从超高真空环境监测到精密工艺控制等复杂应用场景。
| 项目 | 规格 |
|---|---|
| 型号 | QMG 800 |
| 质量范围 | 1-512 amu |
| 四极杆材质 | 钼 |
| 最大工作压力(EM) | 1×10⁻⁵ mbar |
| 分辨率(可调) | 0.3 - 7 amu |
| 最小可检测分压 | 1×10⁻¹⁵ mbar |
| 电子倍增管分压比 | < 0.5 ppb |
| 最高工作温度(传感器及电子元件) | 40°C |
| 测量速度 | 0.125 ms - 60 s/amu |
| 质量分析器类型 | 四极杆 |
| 离轴检测器 | 90° 离轴扫描电镜 |
| 离子源选项 | 轴向离子源、交叉束离子源、交叉束气密离子源、磁交叉束离子源、磁交叉束气密离子源、网格离子源 |
1. 行业的测量速度
QMG 800 的扫描速度达到 125 微秒/AMU,可精准捕捉瞬态气体变化,为高速工艺控制提供实时数据支持。
2. 90° 离轴扫描电子显微镜
采用 90° 离轴设计,可最大限度降低自由基和非电离粒子的噪声干扰,显著提升信噪比。
3. 单离子检测能力
具备的精度和灵敏度,支持单离子检测功能,动态工作范围达 10dB,可在相同压力下捕捉更微弱的信号。
4. 多种离子源选项
提供适用于不同应用的离子源选择,其中磁交叉束离子源灵敏度可达 7×10⁻⁴ A/mbar,满足多种工艺需求。
5. 先进的数字平台与通信
支持 OPC UA 通信协议,可无缝集成于智能工厂与自动化系统中。
6. FabGuard® 软件兼容性
与 INFICON FabGuard® 软件套件兼容,提供深度数据分析和故障预警功能,实现的诊断能力。
| 应用类型 | 说明 |
|---|---|
| 污染检测 | 监测工艺过程中的污染物浓度与来源 |
| 气体纯度监测 | 确保高纯气体供应的品质控制 |
| 终点检测 | 精确判断薄膜沉积、刻蚀等工艺的终点 |
| 分子束外延(MBE)监测 | 实时监控外延生长过程中的气体组分 |
| 痕量分析 | 检测极低浓度的杂质和污染物 |
质量范围:确认所需质量范围是否在 1-512 amu 范围内
离子源类型:根据应用需求选择适合的离子源(轴向/交叉束/磁交叉束/网格)
工作压力:确认系统工作压力是否在 1×10⁻⁵ mbar 以内
通信协议:确认是否需要 OPC UA 通信以实现工厂自动化集成
软件兼容性:确认是否需要 FabGuard® 软件套件进行深度数据分析
检测灵敏度:根据痕量分析需求确认最小可检测分压(1×10⁻¹⁵ mbar)是否满足要求
最高工作温度(传感器及电子元件)为 40°C,安装时需确保散热条件
四极杆材质为钼,使用过程中需避免腐蚀性气体对四极杆的损害
若需实现单离子检测功能,需确认配置是否支持
不同离子源选项的灵敏度和适用场景存在差异,选型时需根据具体应用评估
INFICON QMG 800 残余气体分析仪通过 125 微秒/AMU 的极速扫描、90° 离轴低噪声设计及单离子检测功能,为半导体制造、光伏工艺、科研实验及工业质检等领域提供了一套高性能、高可靠性的气体分析解决方案。其 1-512 amu 的质量范围、1×10⁻¹⁵ mbar 的最小可检测分压及 OPC UA 通信支持,适用于污染检测、气体纯度监测、终点检测及分子束外延监测等对精度和速度要求高的应用场景。