精品！OTSUKA 嵌入式薄膜厚度监测仪
该产品基于光谱干涉法，可对多层薄膜进行高精度实时厚度测量，适用于半导体、FPD 及光学镀膜等制造过程中的薄膜沉积和刻蚀工艺监控。

精品！OTSUKA 嵌入式薄膜厚度监测仪

精品！OTSUKA 嵌入式薄膜厚度监测仪

该嵌入式薄膜厚度监测仪是日本 OTSUKA ELECTRONICS（大塚电子）株式会社推出的一款面向生产设备集成的在线薄膜厚度测量系统。该产品基于光谱干涉法，可对多层薄膜进行高精度实时厚度测量，适用于半导体、FPD 及光学镀膜等制造过程中的薄膜沉积和刻蚀工艺监控。

测量原理与核心技术

该监测仪采用光谱干涉法进行膜厚测量。通过光纤将测量光导入真空腔体或工艺腔室，采集薄膜表面反射的干涉光谱信号，利用内置的 FFT（快速傅里叶变换）薄膜厚度分析引擎 进行数据处理。该分析引擎可有效解析具有波长依赖性的多层膜结构，并实现高速实时厚度计算。该 FFT 膜厚分析技术已获得

该系统采用 光纤连接 的灵活测量架构，光谱仪和光源单元可远离工艺腔室安装，传感器头（探头）通过光纤与主机连接，可直接集成于各种生产设备内部。测量光路可透过工艺腔体上的光学视窗或直接安装于腔体内部，实现对沉积过程的实时监控。支持 远程控制 和 多点测量（多个探头共享一台主机），可对同一腔室内多个位置的膜厚均匀性进行同步监测。

适用测量对象

该监测仪适用于多种薄膜材料和工艺的在线监控：

• 光学薄膜：硬涂层、增透膜（AR）、ITO 透明导电膜等

• FPD 相关材料：光刻胶、SOI、SiO₂、SiN 等

• 半导体工艺：氧化物薄膜、氮化物薄膜、金属薄膜

光源与稳定性

测量光源采用 长寿命、高稳定性白色 LED 光源，可满足长时间连续生产对光源稳定性的要求，减少因光源老化导致的测量漂移。

设备配置与扩展

系统配置包括光谱仪单元、光源单元、光纤及探头（传感器头）。光谱仪可根据测量波长范围选择紫外-可见或可见-近红外型号，以适应不同材料和膜厚范围的检测需求。可配合 MCPD 系列多通道光谱仪 使用，实现高速、高灵敏度的光谱信号采集。该产品可根据客户工艺需求提供定制化系统集成方案。

同系列与相关产品

该嵌入式监测仪与 OPTM 系列显微膜厚计、FE-300F 便携式膜厚计以及线扫描膜厚计等产品形成从实验室研发到量产线监控的完整产品矩阵，用于不同阶段的薄膜厚度测量需求。该产品支持与工厂自动化系统（FA）集成，可通过 PLC 或上位机进行数据采集和反馈控制，适用于对薄膜沉积速率和终点进行实时监控的工艺场景。如需将膜厚监测数据用于闭环控制（如沉积速率调节），请在系统集成时向厂家提出明确需求，以便配置相应的通信接口和控制软件模块。