精品！OTSUKA 薄膜厚度监测仪 FE-300F
该产品采用光学干涉法，通过获取样品的绝对反射率进行薄膜厚度和光学常数的分析，适用于功能性薄膜、半导体、光学镀膜及 FPD 等相关领域。

精品！OTSUKA 薄膜厚度监测仪 FE-300F 

精品！OTSUKA 薄膜厚度监测仪 FE-300F 

FE-300F 是日本 OTSUKA ELECTRONICS（大塚电子）株式会社推出的一款紧凑型薄膜厚度测量装置。该产品采用光学干涉法，通过获取样品的绝对反射率进行薄膜厚度和光学常数的分析，适用于功能性薄膜、半导体、光学镀膜及 FPD 等相关领域。

测量原理

FE-300F 通过测量样品表面的反射光谱，并与基于光学模型的理论计算进行拟合，从而得出薄膜厚度和光学常数。作为采用光学干涉法的反射光谱膜厚计，它支持绝对反射率测量、薄膜厚度分析（最多 10 层）以及光学常数（折射率 n、消光系数 k）分析。

波长范围与膜厚范围

FE-300F 的膜厚测量范围为 3 nm 至 35 μm，可覆盖从较薄的原子层沉积薄膜到较厚的光学镀膜和聚合物薄膜。通过选择不同的光谱仪和光源配置，可以优化特定波长范围内的测量性能，以适应不同材料和厚度范围的检测需求。

硬件与平台

设备采用一体化设计，将光谱仪、光源和计算单元集成于主机内部，有助于确保数据采集的稳定性。其测量光斑直径为 φ1.2 mm，适合对较大面积的均匀薄膜进行快速检测。

操作与软件

设备操作简便，设置测量条件和执行测量的流程经过优化，可支持实时监控和模拟功能。配套分析软件支持薄膜厚度拟合、多层膜建模和光学常数分析。

适用材料

FE-300F 可用于测量多种材料体系：

• 功能性薄膜：透明导电膜（ITO、银纳米线）、相位差膜、偏光膜、AR 膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合剂、密封剂、保护膜、硬涂层、防指纹涂层等

• 半导体：化合物半导体、硅、氧化物薄膜、氮化物薄膜、光刻胶、碳化硅、砷化镓、氮化镓、磷化铟、砷化铟镓、SOI、蓝宝石等

• 光学材料：滤光片、增透膜等

• FPD：LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有机薄膜、封装材料）等

• 其他：硬盘驱动器、磁带、建筑材料、DLC 涂层、防锈剂、防雾剂等

物理规格与电源

FE-300F 采用紧凑型设计，便于在实验室台面上放置。电源为 AC100-240V，50/60Hz。配套附件包括反射测量用光纤、标准反射镜、样品台及分析软件。

同系列选型参考

FE-300F 适合对较大面积薄膜（光斑 φ1.2 mm）进行快速厚度测量和光学常数分析，操作简便且成本相对较低。若需对更微小区域（数 μm 级）进行膜厚测量，可选用 OPTM 系列显微薄膜厚度计。若需在线式膜厚监控，可选用该公司的嵌入式薄膜厚度监测器或线扫描膜厚计。用户可根据样品尺寸、测量区域和精度要求选择匹配的型号。