精品！OTSUKA 显微薄膜厚度计 OPTM-A1
该产品利用显微分光光度技术对微小区域进行绝对反射率测量，从而实现对单层及多层薄膜的厚度和光学常数（n, k）进行高精度分析，适用于半导体制造、平板显示、光学镀膜及材料研发等领域的薄膜工艺控制与质量检测。

精品！OTSUKA 显微薄膜厚度计 OPTM-A1

精品！OTSUKA 显微薄膜厚度计 OPTM-A1

OPTM-A1 是日本 OTSUKA ELECTRONICS（大塚电子）株式会社 OPTM 系列中的一款显微光谱薄膜厚度计。该产品利用显微分光光度技术对微小区域进行绝对反射率测量，从而实现对单层及多层薄膜的厚度和光学常数（n, k）进行高精度分析，适用于半导体制造、平板显示、光学镀膜及材料研发等领域的薄膜工艺控制与质量检测。

测量原理与波长范围

OPTM-A1 基于反射光谱法进行膜厚测量。通过显微镜物镜将测量光斑聚焦至样品表面的微小区域，采集反射光谱后与理论计算模型进行拟合，从而得出膜厚值。其波长范围为 230 至 800 nm，覆盖深紫外至可见光波段，适合测量较薄或对短波长敏感的材料。

膜厚测量范围与光斑直径

OPTM-A1 的膜厚测量范围为 1 nm 至 35 μm（基于 SiO₂ 薄膜计算），可覆盖从原子层沉积（ALD）薄膜到较厚光刻胶层的厚度区间。测量光斑直径提供 φ5、φ10、φ20、φ40 μm 四种可选，可根据测量区域的尺寸选择合适的光斑大小，以适应不同线宽和图案尺寸的样品。

样品尺寸与平台配置

OPTM-A1 的标准样品台可容纳最大 200 mm × 200 mm × 17 mm 的样品，并配备 自动 XY 平台，可实现多点自动测量和区域扫描功能。对于 300 mm 晶圆等更大尺寸样品，厂家可提供定制方案。

测量速度与软件功能

单点测量时间仅需约 1 秒，适合批量样品的快速检测。配套分析软件具备薄膜厚度和光学常数拟合功能，操作界面设计考虑了不同经验层次用户的使用需求。

物理规格与电源

OPTM-A1（自动 XY 平台型）的外形尺寸为 556 mm（宽）× 566 mm（深）× 618 mm（高），质量约 66 kg。电源为 AC100V ±10V，功耗约 500VA。

同系列选型参考

用户可根据待测薄膜的材料特性和厚度范围选择合适的波长配置。该设备适用于半导体制造工艺中的光刻胶厚度监控、LED 外延片膜厚测量、光学镀膜质量控制以及各类功能性薄膜的研发检测。OPTM 系列采用显微镜光谱测量方式，可在不破坏样品的前提下对微小区域进行分析，适合晶圆、玻璃基板及薄膜样品的常规检测与工艺监控。