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更新时间:2026-11-05
浏览次数:10ET4000A 是 KOSAKA(小坂研究所)ET4000 系列中的全自动微细形状测定机型,面向 FPD 基板、晶圆、硬盘等工件的微细形状、段差与粗糙度测定。与同系列的基础机型 ET200A 相比,ET4000A 的核心增量在于支持 2D/3D 表面形状测量,并采用全自动测量流程。
ET4000 系列按用途与工件尺寸分为多个型号,选型时需先看清各自的能力边界:
ET4000A / ET4000AK:可实现 2D/3D 表面形状测量,是本系列中具备三维形貌分析能力的机型。
ET4000M:高性能泛用微细形状测定机,面向常规二维轮廓与段差测定。
ET4000L:对应大型工件的全自动微细形状测定机。
ET4300:适合 12 英寸样品测量。
ET4000A 的 3D 能力使其区别于 ET200A 等仅做二维轮廓与台阶分析的机型,适合需要评价表面三维形貌的场景。
重现性为 1σ 0.5nm 以内,优于 ET200A 的 1σ ≤ 1nm。这一指标直接决定台阶高度与薄膜厚度测量的可信度,0.5nm 的重现性适合纳米级薄膜与超浅台阶的评价。
分辨率方面,Z 轴 0.1nm,X 轴 0.1μm,与 ET200A 同级。测定力范围 0.5μN~500μN(约 0.05mg~50mg),下限比 ET200A 的 10μN 更低,对软质样品、生物医药器件等表面更为友好。
测定范围为 Z 轴 100μm、X 轴 100~305mm(Y 移动量 150~400mm)。需注意 Z 轴量程 100μm 明显小于 ET200A 的 600μm,说明 ET4000A 的定位是高精度浅台阶测量,而非大台阶或深沟槽。若被测台阶超过 100μm,应评估其他型号。
最大试片尺寸为 210×210mm 至 300×400mm,覆盖 FPD 基板与较大晶圆。
可测参数包括薄膜厚度、台阶高度、粗糙度(Ra、Rq、Rmax 等)、划痕深度、磨损深度、薄膜应力(曲率半径法)。
应用领域覆盖半导体、光伏/太阳能、光电子、化合物半导体、OLED、生物医药、PCB 封装等。这些领域的共同特征是:薄膜极薄、台阶极浅、对形貌的定量要求高,与 ET4000A 的低测定力、亚纳米重现性、三维分析能力相匹配。
ET200A:Z 轴量程 600μm、重现性 1σ≤1nm、最大试片 Φ200mm、手动旋转载物台,适合较大台阶与圆形试片的基础形貌分析。
ET4000A(本型号):Z 轴量程 100μm、重现性 1σ≤0.5nm、支持 2D/3D、全自动、试片尺寸更大,适合纳米级薄膜与三维形貌分析。
选型主线:若台阶高度超过 100μm 或仅需二维轮廓,ET200A 更合适;若需三维形貌、纳米级重现性且台阶在 100μm 以内,选 ET4000A。
ET4000A 的适用边界是:需要 2D/3D 表面形貌分析、台阶高度在 100μm 以内、对重现性要求达 0.5nm 级、且工件尺寸在 210×210mm 至 300×400mm 之间的半导体、FPD、光电子等领域。
若仅需二维轮廓与段差,ET4000M 可作为更经济的选项;若工件为 12 英寸晶圆,ET4300 是专门对应型号;若工件尺寸超出 300×400mm,需向 ET4000L 选型。各机型的详细参数(如探针型号、自动化程度、软件功能)样本提示需与区域销售确认,选型前应索取完整规格书。
优势品牌:EYE 岩崎、SEN 日森、CCS 晰写速、NPM 日脉、REVOX 莱宝克斯、SERIC 索莱克、SONIC 索尼克、SANKO 三高、TOPCON 拓普康、TOKI 东机产业、NEWKON 新光、HAYASHI 林时计、SIBATA 柴田、SUGIYAMA 杉山电机、OHKURA 大仓、ULVAC 爱发科、TORAY 东丽、EBARA 荏原、ANALYZER 热研、NFK 南国工业、MATSUO 松尾、NIKKATO 日陶、HEIDON 新东科学、JIKCO 吉高、OTSUKA 大塚电子、ITOH 伊藤、kakuhunter 写真化学、WATSON 沃森、RIYYO 理阳、ESSGES 宜格斯、ATAGO 爱拓、PFERD 马圈、TEMTOP 乐控、TSUBAKI 椿本