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池田屋精品!ULVAC CRYO-U4H低温泵

更新时间:2026-07-16      浏览次数:22

一、产品概述

ULVAC爱发科推出的 CRYO-U4H 低温泵,是一款采用两级 GM 制冷机的高真空泵,能够实现 10⁻⁷ Pa 的极限压力 。型号 CRYO-U4H 为 4 英寸规格,对氮气的排气速度达 450 L/s,对水蒸气的排气速度高达 1,100 L/s。该产品广泛应用于半导体制造设备的溅射工艺、FPD、电子器件、光学及研发等领域,特别适合小型设备的高真空需求

二、产品规格

项目规格
型号CRYO-U4H
极限压力10⁻⁷ Pa 
冷却方式两级 GM 制冷机
降温时间(50/60Hz)45/50 分钟 
重量14.5 kg 
兼容压缩机C10/C10AT、C15R、C30VR 等 

排气速度(20℃)

气体种类排气速度(L/s)
氮气(N₂)450 
氢气(H₂)500 
氩气(Ar)370 
水蒸气(H₂O)1,100 

最大流量与排气容量

气体种类最大流量(Pa・L/s)排气容量(Pa・L)
氩气(Ar)1.3×10³ 1.0×10⁷ 
氢气(H₂)1.5×10⁵ 

三、核心设计特征

1. 高真空性能
极限压力达 10⁻⁷ Pa,可满足从高真空到超高真空的工艺需求 。对水蒸气的排气速度高达 1,100 L/s,有效缩短抽真空时间。

2. 清洁无油真空
低温泵通过低温表面凝结和吸附气体分子实现真空,不产生油蒸气污染,可提供清洁的真空环境

3. 一机多泵运行
单台压缩机最多可驱动 4 台 CRYO-U4H 低温泵同时运行 ,大幅降低设备成本。使用 C10/C10AT 压缩机可驱动 1 台,C30VR 压缩机可驱动 4 台

4. 紧凑轻量设计
重量仅 14.5 kg ,结构紧凑,适用于空间有限的半导体制造设备和小型溅射设备。

5. 高可靠性
维护间隔为 16,000 小时 ,降低长期运行维护成本。

四、压缩机选型参考

压缩机型号可驱动的 CRYO-U4H 台数 
C10/C10AT1 台
C15R3 台
C30VR4 台

五、典型应用场景

应用领域说明
半导体制造溅射工艺、刻蚀设备的高真空环境 
FPD 制造平板显示器生产中的真空工艺 
电子器件电子元器件的真空封装与镀膜 
光学镀膜光学镜片、薄膜的高真空镀膜工艺 
研究开发高真空实验与材料研究 
太阳能电池光伏器件的真空制造工艺 

六、选型要点

  • 真空度需求:确认工艺所需极限压力是否在 10⁻⁷ Pa 级别

  • 气体种类:根据工艺中主要气体种类确认排气速度是否满足要求

  • 压缩机匹配:确认选用的压缩机型号可驱动的泵台数

  • 安装空间:确认 14.5kg 的重量和尺寸是否适配设备 

  • 维护周期:16,000 小时维护间隔,可纳入设备维护计划 

七、注意事项

  • 低温泵需要定期进行再生(Regeneration)操作,以排出冷凝和吸附的气体 

  • 再生过程中大量气体释放,低温泵均配有安全泄压阀,防止爆炸风险 

  • 氢气(H₂)在 8K 温度下不会冷凝,而是通过吸附方式捕获 

  • 建议配套使用 ULVAC 推荐的压缩机和控制单元,以确保最佳性能

八、总结

ULVAC CRYO-U4H 低温泵通过两级 GM 制冷机和高真空设计,为半导体制造、FPD、光学镀膜等行业提供了一套清洁、高效的高真空解决方案。其 4 英寸规格下对氮气 450 L/s、水蒸气 1,100 L/s 的排气速度,配合 10⁻⁷ Pa 的极限压力,特别适用于需要快速抽真空和小型化布局的溅射工艺及研发设备。