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更新时间:2025-12-13
浏览次数:217EBARA 真空泵 ESA25-D 200/400 V 是日本荏原制作所(EBARA)生产的干式真空泵,属于其专业级ESA系列产品。该型号专为半导体制造、化学气相沉积(MO-CVD)等工业应用设计,采用无油干式运行技术,可高效处理氢气等轻质气体排气需求。其核心优势在于将大排气能力(1.5-3.0m³/h)与紧凑设计(230×450×520mm)结合,同时保持低振动和低噪音特性,特别适合对空间和运行环境要求严苛的工业场景。
宽电压兼容设计:支持200V/400V双电压输入,适应不同工业电力环境,200V电压下功耗仅0.4kW,能效表现优异。
高效排气性能:实测流量范围1.5-3.0m³/h,扬程达15m,可在办公桌大小的空间内实现化工厂级的排气能力。
紧凑轻量化结构:整机重量仅100kg,采用模块化设计便于安装维护,特别适合空间受限的工业生产线。
干式无油运行:无需润滑油和油雾过滤器,避免油污染风险,降低维护成本,符合半导体制造等洁净工艺要求。
智能控制系统:配备过载保护和运行状态监测功能,可记录通电时间、运行时长等关键数据,实现预防性维护。
电压规格:200V/400V交流电,50/60Hz频率。
排气速度:在标准工况下,轻质气体排气效率优异,具体数值因实际应用而异。
极限压力:可达到低真空范围,确保工艺腔体快速稳定抽气。
功率需求:高效能设计,功耗较传统油泵显著降低,支持节能运行模式。
材质结构:泵体采用耐腐蚀合金与工程塑料,转子表面特殊处理,增强抗化学侵蚀能力。
尺寸与重量:紧凑型设计,便于空间受限的安装环境,具体尺寸需参考厂商手册。
环境适应性:
操作温度范围:适应常规工业环境,高温下性能稳定。
防护等级:符合工业设备防尘防水标准,确保恶劣条件下可靠性。
半导体制造:用于晶圆沉积、蚀刻等工艺,提供无污染真空环境,防止分子级缺陷。
化工行业:处理腐蚀性气体和有机溶剂,排放,确保安全与环保合规。
电子元件生产:在真空镀膜和封装环节,实现高精度气体控制,提升产品良率。
实验室研究:适用于高纯度实验,避免油蒸汽干扰敏感化学反应。
氮气吹扫选项:支持清洁气体注入,进一步减少残留物,维持系统洁净度。
维护便捷性:模块化设计简化日常保养,减少停机时间,提升生产效率。
ESA25-D 200/400V代表了EBARA在干式真空技术的前沿创新,融合了高效能、耐腐蚀与智能化控制,成为精密工业和清洁工艺的理想选择。用户可根据实际需求选配定制化模块,优化特定应用场景性能,确保长期稳定运行。