池田屋进口 FITOK飞托克 原子层沉积隔膜阀 ALD6LV-RFR4-4-CF3V
FITOK（飞托克）推出的 ALD 系列原子层沉积隔膜阀，型号 ALD6LV-RFR4-4-CF3V，是一款专为半导体原子层沉积（ALD）工艺设计的标准型隔膜阀。

池田屋进口 FITOK飞托克 原子层沉积隔膜阀 ALD6LV-RFR4-4-CF3V 

池田屋进口 FITOK飞托克 原子层沉积隔膜阀 ALD6LV-RFR4-4-CF3V 

FITOK（飞托克）推出的 ALD 系列原子层沉积隔膜阀，型号 ALD6LV-RFR4-4-CF3V，是一款专为半导体原子层沉积（ALD）工艺设计的标准型隔膜阀。该产品采用 316L VAR（真空重熔）不锈钢阀体，配备可旋转阳螺纹 FR 金属垫片面密封接头，具备高洁净度、长寿命等特性，适用于 ALD 前驱体输送、半导体制造及超高纯气体控制等严苛工况。

型号构成说明

ALD6LV-RFR4-4-CF3V 型号中各部分含义如下：

• ALD：原子层沉积隔膜阀系列

• 6L：阀体材质为 316L 不锈钢（真空重熔）

• V：配电磁导阀组件

• RFR4：端口为 1/4 in. 可旋转阳螺纹 FR 金属垫片面密封接头

• 4：孔口规格

• CF3：FITOK FC-03 超高纯工艺清洁标准

• V：配电磁导阀组件

核心性能参数

该阀门最大工作压力为 10 bar（145 psig），工作温度范围为 0°C 至 120°C。流量系数 Cv 为 0.27，端口均为 1/4 in. 可旋转阳螺纹 FR 金属垫片面密封接头，配备常闭气动执行器及电磁导阀组件。阀体材料为 316L 不锈钢真空重熔（VAR），具有的纯净度，适用于对金属离子污染敏感的半导体工艺。每个阀门均经过氦泄漏测试，达到半导体行业要求的超低泄漏率。

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