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现货!USHIO 超高压UV汞灯 USH-500D
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池田屋现货!更多现货详情咨询 176-0755-49O8-涂
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在半导体光刻、液晶面板制造、彩色滤光片及印刷电路板等精密曝光工艺中,高强度的紫外线光源是保证图形解析度与生产效率的核心要素。USHIO(牛尾电机)USH-500D型超高压UV汞灯,作为一款500W级短弧超高压水银灯,针对365nm、405nm和436nm三条主要紫外光谱线进行了优化,广泛应用于各类高精度曝光与固化场景。
一、 产品基本规格参数
USHIO USH-500D超高压UV汞灯的主要技术指标如下:
| 参数项目 | 规格指标 |
|---|---|
| 产品型号 | USH-500D |
| 品牌 | USHIO(牛尾电机) |
| 功率 | 500 W |
| 灯电压 | 60 ± 7 V |
| 工作电流 | 约 8.5 A |
| 光通量 | 32,200 lm |
| 水平辐照度 | 226 µW/cm² |
| 冷电极间距(弧长) | 4.5 mm |
| 平均寿命 | 800 小时 |
| 重量 | 约 96 g |
二、 波长特性与发光原理
USH-500D属于短弧超高压水银灯,通过高压汞蒸气放电产生高强度紫外光。其核心输出集中在三条工业曝光常用的特征谱线上:365nm(长波紫外,固化与曝光主力波段)、405nm和436nm(紫外-可见混合波段,辅助光化学反应)。
该灯具有以下技术特点:
点光源特性:极短的弧长(4.5mm)使发光区域接近点光源,有利于光学系统进行光的集中与扩散,可较容易地获得均匀的照度分布。
稳定输出:超高压工作状态下的等离子体处于热力学平衡,在正常电压波动范围内可保持各波段紫外能量占比的相对稳定。
长寿命设计:优化的电极设计与制造工艺,平均寿命约800小时,在同类产品中具有较高的耐用性。
三、 安装与使用要点
电源匹配:需搭配USHIO原厂专用恒流电源(如HB系列)使用,不可直接接入市电。
预热要求:每次启动后需预留3-5分钟预热时间,待灯内汞蒸气汽化、紫外输出稳定后再投入生产使用,预热不足可能影响曝光效果的一致性。
避免频繁启停:短时间停机(半小时内)建议保持待机状态,频繁的冷启动会加速电极损耗。
定期清洁:灯管石英表面若附着油污或粉尘,会阻碍紫外光透过。清洁时须在断电冷却后进行,使用无尘纸蘸取无水异丙醇沿轴向单向擦拭,不可使用丙酮等腐蚀性溶剂。
四、 典型应用场景
半导体制造:晶圆曝光与光刻工艺的光源
液晶面板/彩色滤光片制造:LCD及OLED基板的图形曝光
印刷电路板(PCB) :线路图形曝光的光源
MEMS制造:微机电系统图形化工艺
其他精密曝光:荧光显微镜光源、新型紫外固化用途等
在半导体光刻、液晶面板制造、彩色滤光片及印刷电路板等精密曝光工艺中,高强度的紫外线光源是保证图形解析度与生产效率的核心要素。USHIO(牛尾电机)USH-500D型超高压UV汞灯,作为一款500W级短弧超高压水银灯,针对365nm、405nm和436nm三条主要紫外光谱线进行了优化,广泛应用于各类高精度曝光与固化场景。
一、 产品基本规格参数
USHIO USH-500D超高压UV汞灯的主要技术指标如下:
| 参数项目 | 规格指标 |
|---|---|
| 产品型号 | USH-500D |
| 品牌 | USHIO(牛尾电机) |
| 功率 | 500 W |
| 灯电压 | 60 ± 7 V |
| 工作电流 | 约 8.5 A |
| 光通量 | 32,200 lm |
| 水平辐照度 | 226 µW/cm² |
| 冷电极间距(弧长) | 4.5 mm |
| 平均寿命 | 800 小时 |
| 重量 | 约 96 g |
二、 波长特性与发光原理
USH-500D属于短弧超高压水银灯,通过高压汞蒸气放电产生高强度紫外光。其核心输出集中在三条工业曝光常用的特征谱线上:365nm(长波紫外,固化与曝光主力波段)、405nm和436nm(紫外-可见混合波段,辅助光化学反应)。
该灯具有以下技术特点:
点光源特性:极短的弧长(4.5mm)使发光区域接近点光源,有利于光学系统进行光的集中与扩散,可较容易地获得均匀的照度分布。
稳定输出:超高压工作状态下的等离子体处于热力学平衡,在正常电压波动范围内可保持各波段紫外能量占比的相对稳定。
长寿命设计:优化的电极设计与制造工艺,平均寿命约800小时,在同类产品中具有较高的耐用性。
三、 安装与使用要点
电源匹配:需搭配USHIO原厂专用恒流电源(如HB系列)使用,不可直接接入市电。
预热要求:每次启动后需预留3-5分钟预热时间,待灯内汞蒸气汽化、紫外输出稳定后再投入生产使用,预热不足可能影响曝光效果的一致性。
避免频繁启停:短时间停机(半小时内)建议保持待机状态,频繁的冷启动会加速电极损耗。
定期清洁:灯管石英表面若附着油污或粉尘,会阻碍紫外光透过。清洁时须在断电冷却后进行,使用无尘纸蘸取无水异丙醇沿轴向单向擦拭,不可使用丙酮等腐蚀性溶剂。
四、 典型应用场景
半导体制造:晶圆曝光与光刻工艺的光源
液晶面板/彩色滤光片制造:LCD及OLED基板的图形曝光
印刷电路板(PCB) :线路图形曝光的光源
MEMS制造:微机电系统图形化工艺
其他精密曝光:荧光显微镜光源、新型紫外固化用途等