SUGAWARA/菅原 脉冲合成闪光触发装置 ESD-Z5815
闪速加热作为一种具前景的印刷电子制造技术，正受到广泛关注。瞬时加热能够对热敏材料（例如树脂）上的薄膜样品进行烧结和改性。

SUGAWARA/菅原 脉冲合成闪光触发装置 ESD-Z5815

SUGAWARA/菅原 脉冲合成闪光触发装置 ESD-Z5815

池田屋推出菅原研究所（Sugawara Laboratories Inc.）脉冲合成式闪速加热装置。该产品采用独特的“脉冲合成法"，可自由组合最多16次闪光（每次约100微秒）形成多种加热模式，最大放电能量达4800焦耳，峰值辐照能量达25kW/cm²，适用于印刷电子制造领域的纳米金属墨水烧结、半导体表面退火及材料瞬时热处理等应用场景。

一、产品概述

二、核心规格

三、核心技术原理

脉冲合成法：将脉冲放电电流依次施加到闪光灯上，利用合成的驱动电流使闪光灯发光。通过调节放电能量和发光时序，可自由改变发光模式，实现多种加热波形。

灵活加热模式：

• 重复加热：每次闪光持续时间约100微秒，可多次重复施加

• 预热后瞬时加热：先预热再进行高强度闪光加热

• 渐进式加热：采用温和的温度梯度进行加热

四、主要应用

五、技术优势

抑制热损伤：通过对铜纳米颗粒电极的光烧结研究表明，采用脉冲合成法可以控制闪光波形，即使在总照射能量相同的条件下，通过调整强光入射时序，可将铜配线电阻率从108μΩ·cm降低至17μΩ·cm。

低温基板兼容：瞬时加热技术能够在短时间内对材料进行高温处理，同时避免对热敏基板（如塑料、聚合物）造成热损伤，实现对热敏材料上薄膜样品的选择性烧结和改性。

多种加热模式：支持预热后瞬时加热、渐进加热和重复加热等多种模式，可根据不同材料和工艺需求选择佳加热条件。

六、典型应用场景

七、选型与定制

菅原研究所可接受客户样品的辐照测试申请，可根据不同客户需求提供定制化的加热方案。装置支持放电能量（50%-100%调节）和闪光时序（0-9999.9ms）的灵活设定。

池田屋表示，菅原研究所脉冲合成式闪速加热装置凭借其独特的脉冲合成技术、最大4800焦耳放电能量及灵活可调的加热模式，可满足印刷电子制造、半导体退火及材料热处理等领域对瞬时加热工艺的需求。