日本Kashiyama樫山工业干 涡轮分子泵背泵
Kashiyama樫山工业干式真空泵关于应用领域，结果6提到应用于化工、电子/电池、半导体制造等领域，这说明该泵适用于高精度和高要求的工业环境。同时，结果6还提到樫山工业在半导体制造中的可靠性

日本Kashiyama樫山工业干 涡轮分子泵背泵

日本Kashiyama樫山工业干 涡轮分子泵背泵

关于应用领域，结果6提到应用于化工、电子/电池、半导体制造等领域，这说明该泵适用于高精度和高要求的工业环境。同时，结果6还提到樫山工业在半导体制造中的可靠性

• 技术沉淀‌：公司在真空技术领域拥有深厚积累，其干式真空泵系列已成为半导体制造工艺的标准设备之一7。

二、核心技术

1. ‌无油干式设计‌

• 采用无润滑油机械结构，避免介质污染，适用于超洁净工艺环境（如半导体晶圆制造）
  

• 支持氮气吹扫功能（0～80 SLM流量调节），增强工艺灵活性
  

2. ‌高效节能技术‌

• 通过新型加热器系统与机械结构优化，实现低功耗化（例如 SDX600 功率仅 1.5 kW）
  

• 小型化机身设计（如 SDX600 尺寸 695×285×820 mm），节省安装空间
  

3. ‌高可靠性保障‌

• 符合工业安全标准，配备高安全性防护设计，适应工况下的稳定运行
  

三、核心产品系列

• ‌SD 系列真空泵‌：包含 SDX600、SDT600、SDX1200 等多型号，覆盖抽气速率 10,000 L/min 至 100,000 L/min，满足不同规模需求
  

• ‌产品兼容性‌：支持与同系列设备协同工作，扩展应用场景（如搭配 SDT600 或 SDX1200 使用）
  

四、应用领域

• ‌半导体制造‌：用于晶圆加工、蚀刻等关键工艺的真空环境控制
  

• ‌电子/电池行业‌：支持锂电池生产、精密元件封装等洁净场景
  

• ‌实验室与化工‌：适用于高纯度实验环境及腐蚀性气体处理

• 技术参数‌

• ‌最大排气速度‌：10,000 l/min

• ‌极限压力‌：0.5 Pa

• ‌功率‌：1.5 kW

• ‌冷却水需求‌：3.0 l/min

• ‌外形尺寸‌：695×285×820 mm

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