池田屋新品推出HORIBA堀场气体流量控制器SEC-N112MGM

近期我司新品发布HORIBA堀场气体流量控制器SEC-N112MGM

近期我司新品发布HORIBA堀场气体流量控制器SEC-N112MGM

发布日期

2026年4月28日

HORIBA堀场气体流量控制器SEC-N112MGM产品介绍

SEC-N112MGM是日本HORIBA堀场旗下SEC-N100系列的明星型号，凭借精准的流量控制能力与灵活的适配性，被业界誉为“小Z500"。它平衡了性能与成本，既保留了流量控制器的高精度与快速响应优势，又通过创新技术降低了使用门槛，成为半导体、光伏、科研实验等众多预算敏感领域的“一步到位"解决方案。

与传统单场景流量控制器不同，SEC-N112MGM打破了“一台设备对应一种气体或量程"的局限，一台设备就能覆盖多种气体与流量范围，极大提升了设备利用率，为企业节省了采购与库存成本。

二、核心优势：精准灵活，稳定可靠

1. 精准控制，响应迅速

依托热式传感器技术，SEC-N112MGM可直接测量气体质量流量，不受温度、压力波动影响，确保数据精准度。搭配可变PID技术，当用户切换气体种类或调整流量量程时，控制器能在1秒内自动重新计算PID参数，实现阶跃响应≤1秒，让流量变化快速稳定，满足精密工艺对流量控制的严苛要求。

2. 多气体多量程，适配广泛

通过MGMR（多气体/多量程）技术，SEC-N112MGM可覆盖N₂、O₂、Ar、H₂、SiH₄等数十种工艺气体，流量范围跨度达10 SCCM - 50 SLM（N₂当量），且能在20% - 100%满量程之间通过软件自由切换。这意味着一台设备可替代多台传统控制器，减少50%以上的备件库存，降低企业运营成本。

3. 全金属密封，适配复杂环境

采用316L EP管与全金属密封结构，无橡胶圈设计，外漏率≤1×10⁻¹¹ Pa·m³/s（He），可适配高纯气体、真空环境等复杂工况，有效避免气体污染与泄漏风险，保障工艺稳定性。

三、多元应用场景：覆盖多行业核心工艺

1. 半导体制造：精密工艺的“流量管家"

在半导体刻蚀、LPCVD（低压化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）等工艺中，SEC-N112MGM负责SiH₄、PH₃、NF₃等工艺气体的精密配送。这些气体的流量精度直接影响芯片的线路精度与良品率，SEC-N112MGM的精准控制能力，为芯片制造的稳定运行保驾护航。

2. 光伏产业：电池生产的关键保障

在PERC、TopCon等光伏电池的扩散与PECVD（等离子体增强化学气相沉积）工艺中，NH₃、B₂H₆、N₂O等气体的流量控制决定着电池的转化效率。SEC-N112MGM可精准调节这些气体的流量，助力光伏电池性能提升。

3. 科研与环保：实验与监测的可靠伙伴

在科研实验室中，SEC-N112MGM常用于CEMS（烟气排放连续监测系统）标气稀释、手套箱气氛控制等实验，为科研数据的准确性提供支持。在环保领域，它可参与气体泄漏测试、大气成分分析等工作，为环境监测提供精准数据。

此外，在LED/OLED制造的MOCVD（金属有机化学气相沉积）工艺、燃料电池的氢气与空气计量等场景中，SEC-N112MGM也凭借稳定的性能，成为企业提升生产效率与产品质量的重要工具。