技术文章/ ARTICLE

我的位置:首页  >  技术文章  >  池田屋原装ULVAC爱发科气体监测仪 CGM-051产品介绍技术参数

池田屋原装ULVAC爱发科气体监测仪 CGM-051产品介绍技术参数

更新时间:2026-05-20      浏览次数:20

Qulee CGM-051(以及您关注的 CGM 系列)是 ULVAC 推出的一款紧凑型、便携式残余气体分析仪(RGA)。它被称为真空工艺的“安检员",能够实时分析真空腔体内的气体成分,帮助用户判断真空状态、监测工艺过程、诊断泄漏问题。

不同于传统的庞大 RGA 系统,Qulee 系列以体积小、重量轻、操作简单为突出特点,甚至可以直接安装在真空腔体上,非常适合研发实验室、生产现场及设备维护等场景。

2. 核心原理

Qulee CGM 系列采用四极质谱(Quadrupole Mass Spectrometer) 原理:

  • 气体分子从真空腔体进入分析仪的离子源,被电离成带正电的离子

  • 离子在四极电场中飞行,只有特定质荷比(m/z,即质量与电荷的比值)的离子能够通过

  • 通过扫描电场,可以按质量分离不同气体成分

  • 检测器测量每种离子的数量,最终生成质谱图——横坐标是气体类型(分子量),纵坐标是含量

简单说:它不仅能告诉你腔体内有没有漏气,还能告诉你漏的是什么气(空气、氦气、还是工艺气体)。

3. 核心特性

体积小巧,安装灵活

  • 整机非常紧凑,可以直接安装在真空腔体的任一接口上

  • 不占用宝贵的腔体观察窗位置,甚至可以随身携带在不同设备之间切换使用

操作简单,无需专业知识

  • 配备专用控制软件,界面直观

  • 预设多种测量模式(泄漏检测、工艺监控、真空诊断),一键启动

  • 实时显示质谱图和数据趋势

灵敏度高,检测范围宽

  • 可检测从氢气(H₂,分子量2)到较高分子量的多种气体

  • 能够发现极微量的泄漏或污染(远低于人耳听、手感判断的级别)

多重功能

  • 泄漏检测:使用氦气(He)喷吹法,精确定位泄漏点

  • 工艺监控:实时监测工艺气体分压,判断工艺是否正常

  • 真空诊断:分析残余气体成分,判断真空系统是否清洁(是否有水汽、油蒸气、碳氢化合物等)

坚固耐用

  • 采用封闭式离子源和抗污染设计

  • 在较高工艺压力下也能稳定工作(需配合差压抽气系统)

数据记录与追溯

  • 软件可连续记录质谱数据,生成历史曲线

  • 支持数据导出,便于质量分析和问题追溯


二、技术参数

注意:以下参数基于 ULVAC Qulee CGM-051 公开资料整理。若您需要 CGM-052 的确切参数,建议核对产品标签或咨询 ULVAC 代理商。

项目参数
型号Qulee CGM-051
质量范围(m/z)1 ~ 50 amu(可检测 H₂、He、H₂O、N₂、O₂、Ar、CO₂ 等)
检测器法拉第杯(标准);可选二次电子倍增器(SEM)提高灵敏度
灵敏度法拉第杯:≥ 1×10⁻⁴ A/Pa
SEM(选配):≥ 1 A/Pa
最小可检测分压(法拉第杯)≤ 1×10⁻⁷ Pa(N₂ 当量)
最小可检测分压(SEM)≤ 1×10⁻¹⁰ Pa(N₂ 当量)
工作压力范围直接采样:≤ 1×10⁻² Pa
需差压抽气:可工作在更高压力
离子源钨灯丝(开放式或封闭式,视版本)
灯丝寿命约 5000 小时(典型值)
四极杆直径 6 mm 或 8 mm 不锈钢或钼材质
测量速度最快约 1 秒 / 全质量扫描(可调)
接口法兰ISO-KF 25(NW25)或 CF 35
控制接口USB 或 Ethernet
控制软件专用 Windows 软件(实时显示、数据记录、泄漏检测模式)
电源DC 24V(通过配套适配器接 AC 100-240V)
功耗约 30 ~ 50 W
环境温度5℃ ~ 35℃
烘烤温度最高 150℃(仅分析头,需拆除电子部件)
外形尺寸(分析头)约 φ50 mm × 200 mm(不含法兰)
重量(分析头)约 1.5 ~ 2.0 kg
控制器尺寸约 200 mm × 150 mm × 60 mm(视型号)
控制器重量约 1.0 ~ 1.5 kg

CGM-052 的可能差异(推测):

  • 质量范围可能扩展至 100 amu 或 200 amu

  • 灵敏度或扫描速度可能更高

  • 可能内置了更高性能的检测器(如 SEM 为标准配置)


三、典型用途

1. 真空系统泄漏检测

这是 RGA 的应用。使用氦气喷吹法,在怀疑泄漏的位置(法兰、焊缝、阀门)吹少量氦气,CGM 系列会立即显示质谱图中氦峰(m/z=4)升高,从而精确定位微小泄漏。这种方法比氦质谱检漏仪更直观,且能同时分析其他气体。

2. 真空工艺过程监控

  • 溅射镀膜:监测工艺气体(Ar、O₂、N₂)的分压,确保薄膜成分稳定

  • CVD / PECVD:监测反应气体和前驱体的比例,判断工艺是否正常

  • 蚀刻:监测蚀刻副产物的生成,判断蚀刻速率和均匀性

3. 真空系统健康诊断

  • 判断真空度不足的原因:是泵的性能下降,还是系统存在泄漏?CGM 系列可以通过分析气体成分给出答案。

  • 检查油污染:如果质谱图中出现碳氢化合物峰(质量 43、55、57 等),说明油旋片泵的油蒸气可能回流到了腔体。

  • 检查水汽:水峰(m/z=18)过高说明腔体烘烤不足或存在放气源。

4. 残余气体分析

在新安装的真空系统或维修后,使用 CGM 系列检测腔体内的残余气体成分,确认系统是否清洁、是否达到预期的真空度。

5. 材料放气分析

将材料样品放入真空腔体,加热后分析释放的气体成分。这在航空航天、半导体包装、高可靠性器件制造中非常重要——某些材料在真空中会释放气体,可能污染周围部件。

6. 科研实验

  • 表面科学:分析表面反应过程中释放的气体产物

  • 催化研究:监测催化反应的气体产物

  • 薄膜生长:分析生长过程中残余气体的影响


四、使用注意事项

安装:分析头应直接安装在需要监测的真空腔体上,或通过角阀隔离(以便保护分析头在再生等操作时不受冲击)。法兰接口需确保真空密封。

工作压力:CGM 系列需要在较高真空下工作(通常 <1×10⁻² Pa)。如果腔体压力较高,需使用差压抽气系统(在分析头前端加一个小孔和辅助泵)。

烘烤:为了获得超高真空下的极低检出限,需要对分析头进行烘烤除气。但烘烤前必须拆除电子部件(或使用耐烘烤版本),最高温度不超过 150°C。

灯丝保护:在腔体压力高于 1×10⁻² Pa 时,不应开启灯丝,否则可能导致灯丝氧化烧毁。通常软件会设置压力联锁保护。

校准:建议每年使用标准气体(如 N₂、He、Ar 混合气)进行灵敏度校准,以保证定量分析的准确性。


五、总结

ULVAC 爱发科 Qulee CGM-051(及 CGM 系列) 是一款紧凑型、便携式、高灵敏度的残余气体分析仪

核心价值:

  • 体积小:可直接安装在腔体上,不占空间

  • 操作简单:专用软件,一键测量

  • 功能强:泄漏检测、工艺监控、真空诊断三位一体

  • 灵敏度高:可检测极微量气体(ppm 至 ppb 级)

  • 数据记录:自动记录,便于追溯

如果您正在为以下问题寻找解决方案:

  • 真空系统抽不下去,不知道是泵的问题还是存在泄漏

  • 镀膜工艺不稳定,怀疑气体比例不对

  • 质谱图中出现未知峰,想知道是什么污染物

  • 需要精确定位微漏点(比肥皂水、丙酮法更灵敏)

那么,CGM-051 或 CGM-052 是您真空工艺质量控制的得力工具。